Deprecated: Unparenthesized `a ? b : c ? d : e` is deprecated. Use either `(a ? b : c) ? d : e` or `a ? b : (c ? d : e)` in /home/maggroup/domains/platinghome.com/public_html/fa/plugins/system/ef4_jmframework/ef4_jmframework.php on line 825 Deprecated: Unparenthesized `a ? b : c ? d : e` is deprecated. Use either `(a ? b : c) ? d : e` or `a ? b : (c ? d : e)` in /home/maggroup/domains/platinghome.com/public_html/fa/plugins/system/ef4_jmframework/includes/libraries/template.php on line 1754 Deprecated: Unparenthesized `a ? b : c ? d : e` is deprecated. Use either `(a ? b : c) ? d : e` or `a ? b : (c ? d : e)` in /home/maggroup/domains/platinghome.com/public_html/fa/plugins/system/ef4_jmframework/includes/libraries/template.php on line 1755 فرمولاسیون پوشش الکتروفورتیک جهت کاهش دمای پخت و حذف آلودگی های محیط زیست (با اصلاح رزین )

نسخه جدید سایت

شما در حال مشاهده سایت آرشیوی هستید

لطفا از نسخه جدید سایت با امکانات جدید دیدن فرمایید. اینجا کلیک کنید

سه شنبه, 02 اسفند 1401 ساعت 13:53

فرمولاسیون پوشش الکتروفورتیک جهت کاهش دمای پخت و حذف آلودگی های محیط زیست (با اصلاح رزین )

نوشته شده توسط
این مورد را ارزیابی کنید
(0 رای‌ها)

فرمولاسیون پوشش الکتروفورتیک جهت کاهش دمای پخت و حذف آلودگی های محیط زیست (با اصلاح رزین )

 

فرمول (ج) عامل شبکه ای کننده ) پلی ایزوسیانات بلوک )

 مقادیر  اجزاء
 ٦٦٦ gr  ایزو فورون دی ایزوسیانات1
 ۱۳۴ gr  تری متیلول پروپان
 ۴۳۱ gr  ا اتیل گلیکول استات خشک
 ٣٦٦ gr  کاپرولاکتوم  2

 

برای تهیه پلی ایزوسیانات ،بلوک ایزو فورون دی ایزوسیانات و تری متیلول پروپان با اتیل گلیکول استات خشک مخلوط شده و همراه با همزدن تا دمای ۶۰ درجه سانتیگراد به مدت یک ساعت حرارت داده می.شود ابتدا تری متیلول پروپان جامد و غیر قابل انحلال ذوب شده و به مدت یک ساعت دیگر واکنش مینماید و دمای مخلوط واکنش به ۹۰ درجه سانتیگراد افزایش می یابد.
برای کامل شدن واکنش مخلوط واکنش برای ۳ ساعت در این دما ثابت نگه داشته می شود و در نهایت اکی والان وزنی NCO به ۴۱۰ می رسد. سپس به آرامی به مخلوط بدست آمده در یک پریود زمانی ۳ ساعت، کاپرولاکتوم اضافه می شود بنحوی که دمای واکنش از ۱۰۰ درجه سانتیگراد تجاوز ننماید.
مخلوط واکنش تا زمانی در این دما ۱۰۰ درجه سانتیگراد باقی میماند که عدد NCO به کمتر از 1/0درصد برسد. حلال ترکیب به دست آمده را با تقطیر در خلاء خارج ساخته بدنبال آن عامل شبکه ای ، کننده برای رسیدن به محتوای جامد ۶۵ درصد وزنی با مخلوط بوتوکسی اتانول و بوتانل نوع دوم با نسبت وزنی ۲ به ۵ رقیق می گردد. در یک فلاسک بوتوکسی اتانل در دمای ۱۳۰ درجه سانتیگراد تحت گاز خنثی حرارت داده می شود و در یک پریود زمانی ۴ ساعته مخلوطی از هیدروکسی اتیل اکریلات، بوتیل اکریلات و بوتیل پراکتوات نوع سوم به محتوای فلاسک به طور یکنواخت اضافه می گردد. دما را به مدت یک ساعت در ۱۳۰ درجه سانتیگراد ثابت نگاه داشته و سپس دما را به ۱۱۰ درجه سانتیگراد کاهش می دهیم .
سپس مجدداً ۳ گرم دیگر بوتیل پراکتوات نوع سوم به آهستگی در مدت ۲ ساعت به مخلوط واکنش فلاسک اضافه شده و دمای مخلوط را به مدت ۴ ساعت در دمای ۱۳۰ درجه سانتیگراد ثابت می ماند. فرمول آماده سازی رزین پلی اکریلات شامل گروههای هیدروکسیل (بعنوان افزودنی)

 مقادیر  اجزاء
 ۳۷۰gr  بوتوکسی اتائل
 368gr  هیدروکسی اتیل اکریلات
 ٧٣٦ gr  بوتیل اکریلات
 9 gr  بوتیل پراکتوات نوع سوم
 gr3  بوتیل پراکتوات نوع سوم

 

درصد جامد 2/74درصد وزنی ۳۰ دقیقه در دمای ۱۸۰درجه سانتیگراد
( ويسكوزيته: Pa.s 4/2) با درصد وزنی بالای (جامد عدد هیدروکسیل: تقریبا mgkoh) ۱۶ به ازای یک گرم رزین (جامد) (فرمول و) g مطابق با جدول ( و ) مخلوطی رزین آمینو اپوکسید با گروه اوره فرمول (ب) و پلی ایزوسیانات بلوک (فرمول ج)، رزین کمکی پلی اکریلات دارای گروه هیدروکسیل (فرمول (د) و اسید فرمیک (۸۵%) با ۲ لیتر آب بدون املاح و یون رقیق می گردد.
فرمول و فرمولاسیون ترکیب پوشش الکتروفورتیک

 مقادیر  اجزاء
 8/194 gr  رزین آمینو اپوکسید با گروه اوره (فرمول ب)
 6/184 gr   ایزوسیانات بلوک (فرمول ج )
 2/20 gr  رزین کمکی پلی اکریلات دارای گروه هیدروکسیل (فرمول د)
 5/4 gr  اسید فرمیک (85%)
 2lit  آب بدون املاح و یون

سطح جسم پایه فلزی که میتواند بعنوان یکی از عوامل ایجاد ناخالصی در حمام الکتروفورتیک به شمار رود.

 

شرایط عمیاتی

غلظت جامد : تقریبا 15 درصد وزنی ph ( حمام ) 7 هدایت حمام : 096/1 مقدار 5/39MEQ:  (میلی اکی والان در 100گرم رزین )دمای پوشش دهی :25درجه سانتیگراد / زمان پوشش دهی :2دقیقه  / ولتاژحمام :280ولت / دمای پخت پوشش :180درجه سانتیگراد

 

فرمولاسيون پوشش فیلم الکتروفورتیک با کیفیت مناسب با استفاده از مواد افزودنی ضد ایجاد حفره

ایجاد پوشش لاک الکتروفورتیک یکی از روش مرسوم جهت ایجاد لایه آستر در بدنه خودرو است که با این روش تشکیل میشوند بعد از پخت و شبکه ای شدن دارای سطح یکنواختی می.باشند پوشش لاک باید عاری از حفره و نقائص سطحی باشد. در غیر اینصورت پوشش لاک به عنوان ،زیرلایه برای ایجاد لایه های بعدی نامناسب میباشد. در عمل به دلایل متفاوتی نقائص سطح در پوشش فیلم بعد از پخت بوجود می آید که مهمترین آن حفره هاو یا ناهمواری سطح می باشد.

علت این نقائص ممکن است وجود ناخالصی در مواد تشکیل دهنده پوشش لاک باشد. نمونه هایی از ناخالصهای موجود در مواد پوشش لاک عبارتنداز

 

1. ناخالص موجود در رنگدانه ها

2. ناخالصی ناشی از عملیات اصلاح

3. ناخالصیهای موجود در هوا که برروی پوشش فیلم می نشیند، مانند آئروسل های حاوی فلورین و سيليكون و عوامل خارجی دیگری که باعث وارد شدن ناخالصی در سیستم حمام الکتروفورتیک میشوند حذف ناخالصیهای فوق مستلزم هزینه های گزافی  یباشد بنابراین استفاده از مواد افزودنی  رای ممانعت از تشکیل حفره و نقائص سطحی لازم و منطقی به نظر میرسد.بنابراین هدف از فرمولاسیون حاضر ارائه مواد افزودنی مناسب و افزودن آن به ترکیب پوشش الکترو فورتیک کاتدی به عنوان عمل ضد ایجاد حفره میباشد اجزاء تشکیل دهنده فرمولاسیون

الف ) رنگپایه که خود شامل رزین پایه به همراه عوامل شبکه ای کننده (پخت) می باشد.

 

1. رزین پایه

این رزین دارای گروههای آمینو نوع اول دوم و سوم بلا عدد آمین بین ۲۰ تا ۲۵۰ وزن ملکولی متوسط رزینهای بازی ترجیحاً ۳۰۰ تا ۱۰۰۰۰ می باشد. گروه بازی رزین پایه ممکن است شامل یکی از گروههای NH2-
، PR3 - SR 2 ،NR2 ،NR+ 3 ،-NRH باشد.
بنابراین رزین های بازی مناسب عبارتند از رزین های آمینو اپوکسید رزین های آمینو اپوکسید با پیوندهای دوگانه انتهایی رزین های آمینو پلی یورتان رزین های پلی بوتادی ان شامل گروه های آمینو و محصولات واکنشی اپوکسید اصلاح شده. رزینهای آمیتو اپوکسید براساس بیس فنل داده A ترجیح می شوند.

 

2.عوامل شبکه ای کننده
مواد شبکه ای کننده مناسب میتواند از بین رزین های تری ،آزین ایزوسیاناتهای بلوک عوامل شبکه ای کننده با پیوندهای دوگانه انتهایی و با هیدروژن فعال مستعد واکنش با پیوندهای دوگانه این عوامل می توانند بصورت مجزا و یا ترکیب مورد استفاده قرار گیرند.

 

ب) مواد افزودنی

یکی از مزیتهای فرمولاسیون حاضر وجود مواد افزودنی ضد ایجاد حفره در سطح پوشش فیلم می باشد که در اینجا اجزای این افزودنی مورد بررسی قرار داده می شود

 

مواد ضد ایجاد حفره

استفاده از این مواد علاوه بر رفع نقائص سطح حفره و ناهمواری سطح کیفیت ظاهر سطح نیز افزایش می یابد. این افزودنی میتواند شامل اجزاء ذیل باشد. جزء ۱ -1/0 تا ۳ درصد وزنی از یک یا چند کوپلیمر متاکریلیک، با عدد آمین ۱۵۰-۱۵ عدد هیدروکسیل ۴۵۰-۱۵ و وزن ملکولی متوسط عددی ۱۰۰۰ تا ۵۰۰۰
***
جز11) - ۰/۱ تا ۲ درصد وزنی از یک یا چند پلی استر با گروههای هیدروکسی آلکیل استر نوع Bبا عدد اسیدی در محدوده ۰ تا ۳ و وزن ملکولی متوسط وزنی ۱۰۰۰ تا ۱۰۰۰۰ جزء ۱۱1 –1/0 تا ۵ درصد وزنی از یک یا چند هموپلیمر یا کوپلیمریک یا چند آلکیل وینیل اتر ، دارای یک تا ۵ اتم کربن ، با وزن مولکولی متوسط وزنی ۵۰۰ تا ۱۰۰۰۰ درصد وزنی فوق بر حسب وزن کل جامد رنگپایه( رزین ) می باشند

قسمت وزنی کوپلیمر متاکریلیک نسبت به پلی استر و قسمت وزنی کوپلیمر متاکریلیک نسبت به هموپلیمر و یا کوپلیمرهای الکیل وینیل اتر در هر حالت به نسبت 1//10تا 10//1در هر حالت نسبت به محتوای رزینهای جامد و در حالت ترکیب کوپلیمرهای متاکریلیک با پلی استر و هموپلیمر و کوپلیمر الکیل وینیل اتر در هرحالت به نسبت 10/1/1/ تا 1/10/1و یا 10/1/1، در هر حالت نسبت به محتوای رزین جامد( رنگپایه)، مورد استفاده قرار می گیرند

خواندن 108 دفعه آخرین ویرایش در دوشنبه, 04 دی 1402 ساعت 17:27
محتوای بیشتر در این بخش: بررسی و شناخت لاکهای الکتروفورتیک »

نظر دادن

Make sure you enter all the required information, indicated by an asterisk (*). HTML code is not allowed.

 

منوی سایت