فیلم های فشرده در محیط های خنثی و یا اسیدهای آلی نظیر آمونیوم پنتابورات، دی هیدروژن فسفات، مولیبدات، تنگستات، تاتارات آمونیوم، اسید سیتریک و اسید مالیک رشد می کنند و به عنوان عایق در صنایع نیمه هادی ها کاربرد فراوانی دارند.

ساختار فیلم های فشرده عمدتا از گاما Al2O3 و یا گاما پریم Al2O3 تشکیل شده است و معمولا بی شکل می باشد که با افزایش دما، ضخامت پوشش و افزایش ولتاژ و یا عملیات حرارتی آلومینیم، قبل از آندایزینگ ساختار بلوری حاصل می شود. ضخامت پوشش تابع ولتاژ اعمالی و حدود ۱ تا ۱.۴ نانومتر بر ولت می باشد که در مورد محلول آمونیوم پنتابورات مقدار متوسط حدود ۱.۱۷ نانومتر بر ولت گزارش شده است. فیلم حاصل حاوی آنیون های الکترولیت در قسمت خارجی خود بوده که میزان ضخامت لایه محتوی آنیون به مشارکت آنیون و چگونگی نفوذ آن در لایه اکسیدی بستگی دارد.

مثلا در مورد بورات ۴۵ تا ۵۰ درصد، در فسفات ۶۵ تا ۷۰ درصد و در کرومات کمتر از ۲۰% ضخامت لایه اکسیدی در سمت خارجی، محتوی آنیون های مربوطه می باشد.