نسخه جدید سایت

شما در حال مشاهده سایت آرشیوی هستید

لطفا از نسخه جدید سایت با امکانات جدید دیدن فرمایید. اینجا کلیک کنید

دوشنبه, 10 ارديبهشت 1397 ساعت 10:28

مقاله ای در مورد PVD و CVD

نوشته شده توسط
این مورد را ارزیابی کنید
(1 رای)

نگارنده: سرکار خانم باقری

در این مطلب آموزشی تکنیک های مختلف رسوب گذاری که در ساخت قطعات الکترونی میکرو استفاده می شود،مورد بررسی قرار می گیرد.اگر یک ماده مثل مس یا تنگستن بر روی قطعات نازک سیلیکونی رسوب داده شود، راههای متفاوتی برای رسیدن به این هدف وجود دارد. رسوب گذاری در صنایع نیمه هادی به چهار گروه تقسیم بندی می شود:

1- رسوب بخار فیزیکی (PVD)
2-رسوب بخار شیمیایی(VVD)
3-رسوب الکتروشیمیایی(ECD)
4-پوشش اشپین
در میان این چهار فرآیند، PVD و پوشش اسپین جز فرآیند های فیزیکی و CVD و EVD جزء فرآیند های شیمیایی هستند. در تولید قطعات IC مقدار واقعی مواد رسوب داده شده به تنهایی در هر مرحله بسیار کم است. مواد رسوب داده به شکل یک فیلم نازک، تقریبا مانند نقاشی روی یک سطح ودر واقعیت بسیار نازک تر از پوشش رنگ است.


برای مطالعه ادامه مقاله درسایت پویاب فلز لطفا کلیک فرمایید

 

banner agahi2

Warning: count(): Parameter must be an array or an object that implements Countable in /home/maggroup/domains/platinghome.com/public_html/fa/templates/jm-classifiedads/html/com_k2/templates/jm-mobeen-1/item.php on line 259
خواندن 2411 دفعه آخرین ویرایش در دوشنبه, 24 بهمن 1401 ساعت 15:12
جناب وحید شکوهی

شرکت پویاب فلز تولید کننده مواد آبکاری

محتوای بیشتر در این بخش: « pvd آبکاری تحت خلا: تعریف

نظر دادن

Make sure you enter all the required information, indicated by an asterisk (*). HTML code is not allowed.

 

منوی سایت